针对铜产品抛光，产品置于等离子(电浆)抛光溶液中进行离子冲击，令表面及人工难以抛光的位置达到镜面抛光效果，同时亦可处理孔毛刺的问题。特别适合铜工艺品及五金件生产行业的使用，处理后工件的抛光面，增强抗腐蚀性，耐久光亮及防止氧化。
等离子抛光原理：
等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
这种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉连结表面化学物质。
适用材质：铜, 白铜, 玻铜和其它导电材质均为有效。
等离子抛光应用范围：
等离子(电浆)抛光技术，解决铜材质的工件上的孔毛刺孔及表面抛光。任何复习的外型尺寸及人手困难处理的表面(包括死角及光暗位)，都能均匀及轻易抛光。对铜表面损耗低于千分之一。
等离子抛光设备特点：
1. 提高生产效率，降低生产成本 : 轻易处理如工件内侧及小孔内壁的抛光，处理时间在几秒之内，大幅减低人手的时间；
2. 全自动控制，操作容易 : 普通人员培训后可于1~2天正常操作；
3. 安全稳定，维护简单 : 设保护感应，防止意外发生，设计人性化，方便维修检查；
4. 抛光均匀程度，每件以至每批工件表面都不受人为手工影响达到一致的镜面效果。
